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1、半导体自动化常用设备及介绍?
半导体自动化是指在半导体制造过程中使用自动化设备和技术来提高生产效率、降低成本和改善产品质量。以下是几种常用的半导体自动化设备及其简介:
1. 清洗设备:在半导体制造过程中,清洗设备用于去除芯片表面的杂质和残留物,确保芯片的纯净度。常见的清洗设备有湿***清洗机和干***清洗机。湿***清洗机使用溶液浸泡芯片,而干***清洗机则使用化学气相沉积的方***。
2. 曝光设备:曝光设备用于在芯片上投射光源,将电路图案传递到感光材料上,是制造芯片中最关键的步骤之一。曝光设备使用光刻技术,能够实现高分辨率和高精度的芯片制造。
3. 刻蚀设备:刻蚀设备用于去除芯片表面的非目标材料,例如去除光刻之后的残留物。常见的刻蚀设备有干***刻蚀机和湿***刻蚀机。干***刻蚀机使用化学气相刻蚀的方***,而湿***刻蚀机则通过溶液进行刻蚀。
4. 沉积设备:沉积设备用于在芯片表面沉积材料,例如金属、氧化物和聚合物等,以形成电路的不同层次或填充缺陷。常见的沉积设备有物理气相沉积机和化学气相沉积机。
5. 测试设备:测试设备用于对成品芯片进行功能和性能测试。测试设备通常包括电气测试、光学测试和尺寸测量等。这些设备通常配备有自动化控制系统,可以高效地对芯片进行测试并记录测试结果。
除了上述设备,半导体自动化还涉及到自动化控制系统、机器人和物料搬运系统等。这些设备和技术的应用可以提高半导体制造的效率和一致性,减少人力投入和生产成本,并提高产品质量。
半导体自动化常用设备包括晶圆清洗机、镀膜机、薄膜测量仪等。
晶圆清洗机用于清洁加工台面,镀膜机用于在晶圆表面形成薄膜,薄膜测量仪则用于测量薄膜的厚度和性能。
这些设备能够提高生产效率和产品质量,实现半导体工艺的自动化操作,并减少人工操作引起的误差,提高生产效益。
这个问题太大了,半导体制造有三四百***工序。就从bare wafer入手,颗粒检测设备,之后有些需要返厂清洗、甩干。然后是等离子注入、扩散、光刻、刻蚀,里面来来**湿***工艺就占了一半。
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